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半导体工业超纯水生产少不了超纯水反渗透膜

发布日期:2021-07-22 10:59 浏览人气:


  几乎所有的半导体生产过程都需要超纯水清洗。工件与水直接接触,水质达不到标准。水中的微量杂质会使芯片再次受到污染,对产品的影响不言而喻。随着半导体的不断完善,半导体生产对水中污染物的要求越来越严格。自20世纪60年代末美国5家公司提出半导体纯水水质指标以来,半导体中的杂质每产生一代就要减少1/2~1/10。美国材料试验学会1983年和1990年颁布的电子级水质标准已不能满足超大规模半导体快速发展的需要。目前,ASTM提出了新的更严格的水质指标。

  “RO+EDI+抛光混床”工艺与传统超纯水处理工艺基本相同。原水经过严格预处理之后,进入RO反渗透膜系统,出水立刻送至EDI装置中,此时出水已经达到一般工业用超纯水要求,再经过抛光混床对出水进行深层次处理,保证出水无任何杂质,达到18兆欧电子级超纯水标准。超纯水反渗透膜具有以下优势:

  1、超纯水反渗透膜高脱盐率、高抗污染,保证膜元件的稳定运行。

  2、超纯水反渗透膜对高硼、硅、锗等金属元素具有高去除率。

  3、超纯水反渗透膜清洗周期长,出水水质稳定,有效节约运行成本。

  4、超纯水反渗透膜适合超纯水行业EDI系统之前作为脱盐组件,保证EDI系统安全稳定运行,确保出水达标。

  半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用,保障水质才能保障半导体合格生产。