反渗透膜在半导体行业所需超纯水设备中体现的技术优势

　　据了解，像是半导体、显示器等都需要用超纯水作为清洗液体，所以这些行业的发展也都影响着超纯水市场的发展。超纯水在这些行业中的各种流程都需要用来作为清洗用水，来去除小的杂质和颗粒，目前传统的超纯水制备工艺都需要定期进行树脂再生，即耗费物力又浪费人工，所以人们开始应用一种新型的EDI超纯水系统来进行制备超纯水，效果显著不说出水水质也是稳定的。

　　该系统主要采用反渗透膜作为核心元件，该膜组件具有高脱盐率，高抗污染，对硼、硅、锗等元素的高去除率，TOC溶出率更低，从而减小后续系统处理压力，提高后续系统的使用周期和使用效果。并且这种反渗透膜元件的化学清洗周期长，出水水质稳定，特别适用于电子级超纯水EDI系统前处理，可以有效地控制电子级超纯水系统的TOC含量。

反渗透膜

　　反渗透膜在半导体行业所需超纯水设备中体现的技术优势：

　　1、反渗透膜组件的脱盐率很高，单级反渗透脱盐率一般可稳定在97%以上，双级反渗透脱盐率一般在99%以上。

　　2、反渗透膜可以有效去除细菌等微生物、有机物，以及金属元素等无机物，出水水质优于其它方法。

　　3、应用反渗透膜组件制备超纯水运行成本及人工成本低廉，减少环境污染。

　　4、减缓了源水水质波动而造成的产水水质变化，从而有利于生产中水质的稳定，这对纯水产品质量的稳定有积极的作用。

　　5、可减少后续处理设备的负担，从而延长后续处理设备的使用寿命。

　　以上，就是关于反渗透膜在半导体行业所需超纯水设备中体现的技术优势的介绍。反渗透膜生产超纯水的工艺已经很成熟，能够有效地降低水的电导率和其中总溶解性固体的含量，对大部分盐类成分的截留率超过95%，并且水通量大。

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